12月11日-12日，北京集成电路2024年度产业发展论坛暨第三十届集成电路设计业展览会（以下简称 ICCAD-Expo 2024 ）在北京隆重举行。 2场 论坛演讲， 4场 展台前沿技术分享，吸引了与会嘉宾及媒体的广泛关注。

 

大咖光临  · 交流指导 · 探讨发展

展会开幕首日， 教授莅临展台指导交流 ，营销中心总经理邓金斌陪同接待。在指导交流过程中，邓金斌介绍了的发展情况。

直击现场 · 论坛演讲 · 精彩一览

0 1 平凡的改变，将改变平凡

12月11日，ICCAD-Expo2024在北京开幕。在下午刚刚结束的高峰论坛上， 首席产品科学家顾征宙先生 带来了题为 《平凡的改变，将改变平凡》 的主题演讲。

在演讲中，顾征宙表示当前 国产EDA发展正面临三大核心挑战 ：

l 如何加速新工艺的快速导入

l 如何确保设计过程得到充分的检验

l 能否提供更快、更精确的制造端软件工具

针对这些挑战，围绕设计验证、工艺导入以及制造端问题解决三个方面展开，并开发出多个核心产品，包括形式验证平台、PDK平台、K库软件、MDP软件以及针对国产机台的OEM定制等。

顾征宙特别提到了的突破性进展，如团队的 MDP软件 在精准度和速度上取得了重大突破，重新定义了图形引擎在 Foundry的应用。同时， 形式验证平台 不仅远远超出传统形式验证工具的范畴，还形成了完整的平台化解决方案，在大型项目中的应用量正在逐年增长。此外， 在工艺导入方面 ，整合了大量经验教训，加入了成熟的 QA流程，帮助国内fab厂快速建立高质量的PDK release和qualification SOP。

顾征宙强调 ， 国产 EDA需要在工艺快速导入、设计验证充分性以及高速精准的软件提供等方面做出努力，以满足fabless和fab厂的需求。

最后他表示， 希望国产 EDA产业能够像梵高的星空一样照亮整个高科技行业。 愿携手业界同仁在平凡的点滴改变中，书写国产 EDA “芯”篇章。

 

0 2 验证左移，加速 TTM

12月12日 ， 数字验证工程师刘美华 在 “EDA与IC设计服务”论坛 上分享演讲 《验证左移，加速 TTM 》 。

刘美华深刻剖析了当前集成电路设计验证领域面临的严峻挑战： 设计复杂度攀升导致验证难度激增，项目按时交付率低下，不足 40%。 功能错误频发与重复流片成本高企成为主要瓶颈。为此，她提出 “验证左移”策略，强调在设计早期加强验证，以减少后期错误修正成本和时间。

 

同时，刘美华详细介绍了 的 EsseFormal形式验证平台 ，作为 “验证左移”策略的核心工具，该平台凭借与仿真技术的协同，加速了覆盖率收敛，确保了互联检查正确性，加速了复位域及时钟域验证，促进了功耗收敛。

EsseFormal的全面功能特性使其成为缩短TTM（市场投放时间）的关键解决方案， 已在多个项目中成功应用，显著提升了验证效率和交付率 ，为集成电路设计行业的创新发展提供了有力支持。

 

直击现场 · DEMO展示 · 技术分享

在为期两天的展览中，从核心技术、研发实力、业务布局、创新产品、场景应用等 多角度，全方面展示公司 “芯天成”系列产品的综合实力和创新成果 。

0 1 RISC-V:形式验证的创新突破

演讲人 叶思华 ：于 2022年获得通信工程学士学位，主要从事EDA相关工具形式验证应用方面的研究。

形式验证相较于传统方法能更有效地预防潜在漏洞。叶思华详尽阐述了 EsseFormal平台不仅配备全面的形式验证工具，还通过技术创新 实现了对 RISC-V处理器设计的高效验证 ，适用于 RISC-V芯片的所有验证阶段，加速了验证过程的收敛。

 

0 2 3DIC时代的可靠性解决方案

演讲人 王禹 ： 高级研发总监， 于 2022年获得通信工程学士学位，主要从事EDA相关工具形式验证应用方面的研究。

随着芯片在多个领域广泛应用及 3D堆叠技术普及，芯片长期可靠性愈发关键。通过精确分析老化效应对器件性能的影响，优化设计，可提升芯片长期工作稳定性。高级研发总监王禹表示，从底层标准单元设计至芯片级，综合考虑老化效应影响，能 更精确分析关键路径时序余量，显著提升芯片长期可靠性 。

 

0 3 后摩尔时代 PDK 开发平台

演讲人 汤虎 ：从业 14年，聚焦PDK物理验证方向，拥有Foundry和EDA公司多年从业经验。

一款全面高效的 PDK开发验证平台对于芯片行业的进步具有至关重要的推动作用。essePDK工具 从 PDK组件验证，PDK设计流程把控和PDK验证库自动化生成三个方向出发 ，设计了全面高效的验证方式，促进 PDK开发的快速收敛。

 

0 4 后摩尔时代 PDK 开发平台

演讲人 付静 ：拥有 11年制造端EDA的从业经验，对Foundry和Mask方向的软件有较深的研究。

芯片制造领域对版图定制化要求日益提升，完整的 EDA平台产品成为不可或缺的关键。付静在演讲中深入探讨了这一议题，并重点介绍了 MDC 平台，该平台以 稳定数据库、丰富图形引擎等特性 ，全面支持 FAB至MASK流程，确保EDA高效可靠。  

ICCAD 2024已圆满结束，但集成电路国产化的征程仍在前行。将持续聚焦行业发展，秉承 “自主创新，让造芯更便捷” 的企业愿景，为行业发展贡献更多创 “芯“动力。坚信，随着国产EDA等关键核心技术的突破，借助强大的技术基底、良好的上下游紧密合作，中国集成电路业必将实现高质量的飞速发展！